3月1日，日本內閣通過了一項發(fā)明專利與外觀專利的修正案，該修正案有望在2019年年底予以實施。此次修正案的主要內容包括：（i）改進知識產權侵權的訴訟系統(tǒng)；（ii）擴大和改進外觀保護系統(tǒng)。

　　其中，知識產權侵權訴訟系統(tǒng)的改進內容主要包括：

　?。╝）擴大和改進了秘密審查（in-camera）程序，不僅僅是決定文件所有者是否有足夠理由拒絕披露文件，還可以決定這些文件對于證明侵權或者證明侵權損失是否是必要的，另外，法庭對于文件的披露，也可以在雙方同意的情況下，披露給專家顧問；

　?。╞）建立了一個新的稽核系統(tǒng)（inspection system），該系統(tǒng)允許訴訟中的一方收集必要的證據來證明訴訟相關的事實；

　?。╟）改進了計算損失額的方法，修正案規(guī)定由于專利所有權人的生成和銷售能力有限而不利于計算其損失的利益時，專利所有權人也可以要求基于合理的許可使用費來聯合計算其損失額，這有利于中小企業(yè)或初創(chuàng)企業(yè)在知識產權侵權案件中獲得足夠的補償。

　　外觀保護系統(tǒng)的改進內容主要包括：

　?。╝）擴大外觀專利的保護主題，將擴大保護未在產品上顯示或記錄的圖片以及建筑物的外觀和內部裝飾；

　?。╞）修正關聯外觀系統(tǒng)，將申請關聯外觀的期限由目前的基礎外觀注冊公告前延長至基礎外觀專利申請日起的10年內，另外，僅與關聯外觀相似的外觀設計將可能注冊；

　?。╟）修改外觀專利的保護期限，由目前的注冊之日起20年修改為申請之日起25年；

　　（d）簡化外觀申請程序，包括允許多項外觀設計申請，以及廢除商品類別；

　　（e）添加間接侵權的規(guī)定，規(guī)定當侵權者明知道商品是在外觀產品實施中使用時，進口以及制造被分解成組成部分的侵權產品也將視為侵權。

　　4月1日起，根據修訂后的專利法與內閣法令，日本專利局（JPO）實施了新的官費減免政策，降低了符合減免條件的標準，擴大了減免政策的適用范圍。同時，為了補償由于新的減免政策導致的JPO財政收入的減少，自4月1日起，JPO對專利申請中的實審請求費相應地上調了約17%。

　　JPO實行的官費減免政策包括兩個體系：

　?。ˋ）微小實體（SMEs）和研發(fā)機構（RDEs）的費用減免體系（本次修訂添加），適用于在2019年4月1日起提交實審請求的所有發(fā)明專利申請。該系統(tǒng)適用于包括海外申請人在內的各種類型的微小實體和研發(fā)機構，且無需提供證據；

　?。˙）為資金不充足企業(yè)提供的官費豁免、減少以及寬限系統(tǒng)（已存在），適用于2014年4月1日起提交實審請求的所有發(fā)明專利申請。該系統(tǒng)僅適用于日本國內的申請人，條件較為苛刻，且需要提供證據。

　　JPO官費減免政策適用的官費種類包括：（a）發(fā)明專利申請中的請求實審費；（b）發(fā)明專利授權后應繳納的第1年至第10年的年費。

　　關于微小實體（SMEs）和研發(fā)機構（RDEs）的費用減免體系，JPO官費減免政策適用的申請人資格以及官費減免情況，如下表所列：

　　例：假設一件包括10項權利要求的PCT申請進入日本國家階段，且最終授權文本也包含10項權利要求，那么不同類型的申請人需要繳納的請求實審費與第1年至第10年的年費情況如下：