近期，智利政府公布了商標(biāo)、專利等相關(guān)法律的改法決定，與專利相關(guān)的改法內(nèi)容如下：

　　1.改法后，專利著錄項變更官費(fèi)須在提交轉(zhuǎn)讓記錄請求時一并繳納，專利局有權(quán)要求申請人進(jìn)一步提供相關(guān)文件；

　　2.有關(guān)支付專利維持費(fèi)的新規(guī)定；

　　3.將工業(yè)外觀設(shè)計的保護(hù)期延長至 15 年；

　　4.工業(yè)外觀設(shè)計提交時可選擇無需實(shí)質(zhì)審查的自動注冊程序，但未經(jīng)實(shí)審的外觀設(shè)計不能提起侵權(quán)訴訟；

　　5.由于行政拖延造成的審查周期過長，申請人請求專利補(bǔ)充保護(hù)期限的時間自專利授權(quán)日起的6個月改為60天（工作日）；

　　6.PCT進(jìn)入智利國家階段權(quán)利恢復(fù)截止日期的變化；

　　7.增加超頁費(fèi)（超過80頁，每增加20頁加收88美元）及延遲繳納申請官費(fèi)（改法后，專利申請費(fèi)應(yīng)在提交申請時或自申請日起30個工作日內(nèi)繳納，逾期不繳納視為放棄）的規(guī)定；

　　8.增加臨時申請類型。