權(quán)利要求修改淺談

2016-12-23
  •   文/集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 葛聰慧

      申請人將撰寫完成的發(fā)明的申請文件提交到國家知識產(chǎn)權(quán)局以后,在該發(fā)明授權(quán)或駁回前,申請人可以依照《專利法》以及《專利法實(shí)施細(xì)則》的規(guī)定,對該發(fā)明的申請文件進(jìn)行修改。申請人對申請文件的修改中,以對權(quán)利要求的修改為重點(diǎn)。下面結(jié)合一個實(shí)例,淺談筆者對權(quán)利要求修改的一點(diǎn)見解。

      一、案例描述

      申請人所提交的發(fā)明的申請文件中,獨(dú)立權(quán)利要求1請求保護(hù)技術(shù)方案A,權(quán)利要求2是權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求,權(quán)利要求2請求保護(hù)技術(shù)方案B,但是技術(shù)方案A與技術(shù)方案B是兩個相互獨(dú)立的并列的技術(shù)方案,因此,實(shí)質(zhì)上權(quán)利要求2并不能作為權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求。

      當(dāng)發(fā)明的申請文件的權(quán)利要求出現(xiàn)上述缺陷時,一般情況下,常見的一種修改方式為,對技術(shù)方案A和技術(shù)方案B進(jìn)行上位,獲得一個能夠涵蓋技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的一個技術(shù)方案C,將技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求,將保護(hù)技術(shù)方案A的權(quán)利要求和保護(hù)技術(shù)方案B的權(quán)利要求,分別作為該新的獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求。

      上述修改方式是否被允許呢?筆者在下述內(nèi)容中主要依據(jù)兩個法條進(jìn)行詳細(xì)闡述,第一,專利法第33條的規(guī)定;第二,專利法實(shí)施細(xì)則的第51條的規(guī)定。

      二、依據(jù)專利法第33條的規(guī)定進(jìn)行闡述

      專利法第33條規(guī)定:申請人可以對其專利申請文件進(jìn)行修改,但是,對發(fā)明和實(shí)用新型專利申請文件的修改不得超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍,對外觀設(shè)計專利申請文件的修改不得超出原圖片或者照片表示的范圍。

      因此,在對發(fā)明的申請文件的權(quán)利要求進(jìn)行修改時,修改后的權(quán)利要求需要符合專利法第33條的規(guī)定,即修改后的權(quán)利要求不能超出原說明書和權(quán)利要求書所記載的范圍。

      那么,怎么判斷修改后的權(quán)利要求是否符合專利法第33條的規(guī)定呢?《專利審查指南》2010版第二部分第八章5.2.1.1中明確說明:“原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍包括原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容和根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定的內(nèi)容”。也就是說,修改后的權(quán)利要求若想滿足專利法第33條的規(guī)定,則需滿足下述兩個條件中的任意一個即可:

      第一個條件,修改后的權(quán)利要求在原說明書和權(quán)利要求書中有明確的文字記載;

      第二個條件,修改后的權(quán)利要求在原說明書和權(quán)利要求書中雖然沒有明確的文字記載,但是,可以根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。

      本文第一部分案例描述中,所采用的修改方式是,添加一個涵蓋技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的一個技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求。根據(jù)上述描述,對上述修改方式分析如下:

      第一種情況,技術(shù)方案C在原說明書和權(quán)利要求書中有明確的文字記載。此時,技術(shù)方案C符合上述第一個條件,上述修改方式符合專利法第33條的規(guī)定。

      第二種情況,技術(shù)方案C在原說明書和權(quán)利要求書中沒有明確的文字記載,但是,可以根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。例如:技術(shù)方案C下位的實(shí)現(xiàn)方式有且只有兩種,一種是技術(shù)方案A,一種是技術(shù)方案B,原申請文件中記載了技術(shù)方案A和技術(shù)方案B,根據(jù)技術(shù)方案A和技術(shù)方案B可以直接地、毫無疑義地確定技術(shù)方案C。此時,技術(shù)方案C符合上述第二個條件,上述修改方式符合專利法第33條的規(guī)定。

      第三種情況,技術(shù)方案C在原說明書和權(quán)利要求書中沒有明確的文字記載,并且,也不能根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。也就是說,技術(shù)方案C保護(hù)了一個上位的實(shí)現(xiàn)方案,而原申請文件中僅僅記載了技術(shù)方案C的兩種下位的實(shí)現(xiàn)方案(技術(shù)方案A和技術(shù)方案B),例如,技術(shù)方案C還至少包括另一種下位的實(shí)現(xiàn)方案D。也就是說,根據(jù)原申請文件所記載的內(nèi)容,無法直接地、毫無疑義地確定一個能夠包含技術(shù)方案D的技術(shù)方案C。此時,上述修改方式不符合專利法第33條的規(guī)定。

      上述第一種情況下,第一部分案例描述中所述的發(fā)明的申請人,雖然沒有在本發(fā)明的權(quán)利要求中聲稱保護(hù)技術(shù)方案C,僅在說明書中記載了技術(shù)方案C,但是,該技術(shù)方案C也是本發(fā)明的申請人付出了創(chuàng)造性的勞動所得到的,從保護(hù)本發(fā)明的申請人的利益角度考慮,為了更正原權(quán)利要求的缺陷,添加該技術(shù)方案C的修改符合專利法第33條的規(guī)定。

      上述第二種情況下,由于技術(shù)方案C僅包括技術(shù)方案A和技術(shù)方案B兩種實(shí)現(xiàn)方式,本發(fā)明的申請文件中所記載的技術(shù)方案A和技術(shù)方案B,等同于記載技術(shù)方案C,即本發(fā)明的申請人得到技術(shù)方案A和技術(shù)方案B所付出的創(chuàng)造性的勞動,等同于得到技術(shù)方案C所付出的創(chuàng)造性的勞動,為了更正原權(quán)利要求的缺陷,添加該技術(shù)方案C的修改方式符合專利法第33條的規(guī)定。

      但是,在上述第三種情況下,若是將技術(shù)方案C添加到本發(fā)明的權(quán)利要求中,該技術(shù)方案C中包含技術(shù)方案D,即在原申請文件中添加了新的技術(shù)方案D。而專利法第33條的立法本意是不允許增加新的內(nèi)容,上述修改顯然是不符合專利法第33條的規(guī)定的。

      此外,從另一個角度考慮,若允許將技術(shù)方案C添加到本發(fā)明權(quán)利要求中,會影響在后申請人的利益。技術(shù)方案A和技術(shù)方案B,是與技術(shù)方案D并列的技術(shù)方案,本發(fā)明的申請人僅付出了得到技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的創(chuàng)造性勞動,而沒有付出得到技術(shù)方案D的創(chuàng)造性勞動,即本發(fā)明的申請人獲得了一個沒有付出創(chuàng)造性勞動的技術(shù)方案D。若在后申請保護(hù)技術(shù)方案D,則在后申請則落入了本發(fā)明修改后的權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。此時,在后申請的申請人利益受到損失,而本發(fā)明的申請人卻獲得了一個其并未付出創(chuàng)造性勞動的技術(shù)方案D。

      綜上所述,第一種情況和第二種情況下,添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求符合專利法第33條的規(guī)定,而第三種情況下,添加技術(shù)方案C作為新的權(quán)利要求不符合專利法第33條的規(guī)定,是不被允許的。

      并且,還需要注意的是,在審查過程中,由于各種因素即使在第三種情況下該申請文件被授權(quán)了。在無效程序中,新的獨(dú)立權(quán)利要求也能夠以不符合專利法第33條的規(guī)定的原因而被無效。

      那么是不是符合專利法第33條的規(guī)定,添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方式就是被允許的呢?下面依據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則的第51條的規(guī)定進(jìn)行詳細(xì)闡述。

      三、依據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則第51條的規(guī)定進(jìn)行闡述

      專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款規(guī)定:發(fā)明專利申請人在提出實(shí)質(zhì)審查請求時以及在收到國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的發(fā)明申請進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段通知之日起的3個月內(nèi),可以對發(fā)明專利申請主動提出修改。專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款規(guī)定:申請人在收到國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的審查意見通知書后對專利申請文件進(jìn)行修改的,應(yīng)當(dāng)針對通知書指出的缺陷進(jìn)行修改。專利法實(shí)施細(xì)則第51條規(guī)定了兩種修改的情況:第一種情況是主動修改,第二種情況是被動修改。

      專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款規(guī)定的發(fā)明的申請文件的主動修改時機(jī)有兩個,一個是提出實(shí)質(zhì)審查請求時,另一個是收到國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的發(fā)明申請進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段通知之日起的3個月內(nèi)。若申請人發(fā)現(xiàn)第一部分案例描述中原權(quán)利要求的缺陷,在滿足專利法第33條的前提下,可以在上述兩個主動修改的時機(jī)添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求,即上述修改是被允許的。

      專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款規(guī)定的發(fā)明的申請文件的被動修改,指的是對申請文件針對審查意見通知書中所指出的缺陷進(jìn)行修改。按照專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定,即使添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求符合專利法第33條的規(guī)定,若審查意見通知書中并沒有指出第一部分案例描述中原權(quán)利要求的缺陷,該添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案也是不被允許的,不符合專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定。

      這樣規(guī)定的原因是什么呢?專利審查指南2010版第二部分第八章5.2.1.3中明確說明了“當(dāng)出現(xiàn)下列情況時,即使修改的內(nèi)容沒有超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍(即修改的內(nèi)容符合專利法第33條的規(guī)定),也不能被視為是針對通知書指出的缺陷進(jìn)行的修改,因而不予接受”。其中,下列情況包括:

      (1)主動刪除獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征,擴(kuò)大了該權(quán)利要求請求保護(hù)的范圍;

     ?。?)主動改變獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征,導(dǎo)致擴(kuò)大了請求保護(hù)的范圍;

     ?。?)主動將僅在說明書中記載的與原來要求保護(hù)的主體缺乏單一性的技術(shù)內(nèi)容作為修改后權(quán)利要求的主題;

     ?。?)主動增加新的獨(dú)立權(quán)利要求,該獨(dú)立權(quán)利要求限定的技術(shù)方案在原權(quán)利要求書中未出現(xiàn)過;

     ?。?)主動增加新的從屬權(quán)利要求,該從屬權(quán)利要求限定的技術(shù)方案在原權(quán)利要求書中未出現(xiàn)過。

      上述5種情況,前4種情況都與獨(dú)立權(quán)利要求有關(guān),可以看出,專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定主要是針對審查過程中擴(kuò)大獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍或者新增獨(dú)立權(quán)利要求的情況。但是,在主動修改時,就沒有排除上述5種情況。也就是說,在專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款所規(guī)定的主動修改時機(jī)時,可以允許申請人進(jìn)行上述5種情況的修改。審查員會對修改后的申請文件依法進(jìn)行審查。而超過了國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的發(fā)明申請進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段通知之日起的3個月后,申請人進(jìn)行上述5種情況的修改,會產(chǎn)生影響正常審查程序的問題,為了避免上述問題,不允許申請人進(jìn)行上述5種情況的修改。

      由上述分析可知,本文第一部分案件描述中的修改方式,即為上述所列的5種情況中的第4種。若審查意見通知書中指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷,在符合專利法第33條規(guī)定的前提下,添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案是被允許的。若審查意見通知書沒有指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷,即使符合專利法第33條規(guī)定,添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案也是不被允許的。

      若審查意見通知書沒有指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷,申請人若想克服該缺陷該如何處理呢?第一種處理方式:若原申請文件中對技術(shù)方案C有明確的文字記載,申請人可以將技術(shù)方案C分案申請,或者申請一個在后申請,保護(hù)技術(shù)方案C,要求第一部分案件描述中發(fā)明的優(yōu)先權(quán)。第二種處理方式:若原申請文件對技術(shù)方案C沒有明確的文字記載,而原申請文件中所記載的技術(shù)方案A和技術(shù)方案B可以直接地、毫無疑義地確定技術(shù)方案C時,則可以申請一個在后申請,保護(hù)技術(shù)方案C,要求第一部分案件描述中發(fā)明的優(yōu)先權(quán)。第三種處理方式:將原申請文件中的從屬權(quán)利要求2修改為一個與權(quán)利要求1并列的獨(dú)立權(quán)利要求??梢岳斫獾氖?,第三種處理方式無法保護(hù)上位的技術(shù)方案C,保護(hù)范圍較小,可以在添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案不符合專利法第33條的規(guī)定時使用。

      在實(shí)務(wù)操作中,當(dāng)添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案滿足專利法第33條規(guī)定時,若審查意見通知書沒有指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷,申請人可以與審查員溝通該添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案,審查員會依據(jù)是否影響審查程序的角度做出是否允許該修改的結(jié)論。

      并且,還需要注意的是,在審查過程中,當(dāng)添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案滿足專利法第33條規(guī)定時,申請人對申請文件按照上述修改方案進(jìn)行了修改,即使不符合專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定,但是,只要該申請被授權(quán),在無效程序中,該保護(hù)技術(shù)方案C的新的獨(dú)立權(quán)利要求也是有效的。

      四、結(jié)論

      針對本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷,所采用的修改方案為添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求。首先,該修改方案要滿足專利法第33條的規(guī)定。其次,該修改方案符合專利法第33條規(guī)定的前提下,一方面可以在專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款規(guī)定的兩個主動修改的時機(jī)進(jìn)行主動修改,另一方面也可以在滿足專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定的情況下進(jìn)行被動修改。當(dāng)該修改方案符合專利法第33條規(guī)定,但是不符合專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定時,可以采用分案或者要求優(yōu)先權(quán)的方式獲得一個保護(hù)技術(shù)方案C的新申請。

      以上為筆者的個人觀點(diǎn),若有不妥之處,還請讀者批評指正。

    此篇文章由北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司版權(quán)所有,轉(zhuǎn)載請注明出處     

 

相關(guān)關(guān)鍵詞