最高院:有發(fā)明專利的,可以考慮減刑、假釋!

2016-11-16

  《最高人民法院關(guān)于辦理減刑、假釋案件具體應用法律的規(guī)定》已于2016年9月19日由最高人民法院審判委員會第1693次會議通過,現(xiàn)予公布,自2017年1月1日起施行。

  其中《規(guī)定》的第五條具有下列情形之一的,應當認定為有“重大立功表現(xiàn)”:

  (四)有發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新的;

  第(四)項中的發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新應當是罪犯在刑罰執(zhí)行期間獨立或者為主完成并經(jīng)國家主管部門確認的發(fā)明專利,且不包括實用新型專利和外觀設(shè)計專利;第(七)項中的其他重大貢獻應當由罪犯在刑罰執(zhí)行期間獨立或者為主完成,并經(jīng)國家主管部門確認。(來源:最高院)

 

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